美國國會一項針對中國晶片製造設備出口的法案近日進行大幅修訂,雖然刪除了部分引發業界反彈的條款,但仍維持對荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾(ASML)深紫外光(DUV)浸潤式微影機台的全國性出口限制。ASML作為該項關鍵技術的全球領導廠商,對此未發表任何回應。
這項名為「硬體技術多邊協調管制法案」(MATCH Act)於今年4月2日在聯邦眾議院提出,獲得民主、共和兩黨共同支持。法案核心目標在於填補現行對中國晶片設備出口管制的漏洞,同時促使美國與日本、荷蘭等盟國在管制政策上步調一致,藉此鞏固美國在人工智慧(AI)領域的技術優勢。法案由共和黨眾議員鮑加納(Michael Baumgartner)領銜提出,目前已以修訂版本取代原始草案。
國會之所以積極推動立法,主要因為川普政府在更新出口管制措施上進展緩慢,甚至放寬了部分先進晶片的出口限制。然而,4月初的原始版本因管制範圍過於廣泛,遭到美國國內及海外業界強烈反對。有專家將該法案形容為「失控列車」,批評其不僅試圖強迫盟國配合美方管制標準,還引入大量全面性國家限制與企業限制,恐導致出口萎縮並衝擊相關企業營收。
經過修訂後,新版法案已移除多項爭議條款,包括對低溫蝕刻設備的全面性出口禁令。這類設備主要由美國科林研發(Lam Research)及日本東京威力科創(Tokyo Electron)生產。美國眾議院外交事務委員會預計於22日就此案進行表決,同日還將審議十餘項涉及AI、半導體及出口管制的相關法案。
儘管法案範圍有所縮減,修訂版仍明確禁止外國企業向中國三大晶片製造商——長鑫存儲、長江存儲及中芯國際——提供使用美國技術的設備。此外,法案要求在受管制設施內進行設備維修時須事先取得許可,此規定對外國企業仍具爭議性,但新版已不再採取一律拒絕申請的立場。
自2022年底啟動對中晶片設備出口管制以來,美國持續與荷蘭及日本協調政策,雖已取得部分進展,但美國設備製造商仍認為各國管制力度不一,競爭環境並不公平。上述三家中國晶片製造商均未回應媒體的置評請求。中國駐美大使館發言人劉鵬宇則表示
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