中國原型先進光刻機傳2030運轉　專家諷：只不過大型模型無法商轉

美國科技媒體《Tom's Hardware》報導，中國大陸正積極建造 EUV（極紫外光）光刻系統的原型機，預計在2030年左右能製造出原型晶片。 但是這台原型機能發揮多少作用？美國科技政策與出口管制專家麥奎爾（Chris McGuire）針對中國複製ASML的EUV（極紫外光）曝光機一事受訪指出，即便中國在實驗室層級取得部分進展，距離可長時間穩定運作、具備量產與商業可行性的 EUV 光刻機，仍存在數個世代的技術與良率落差。這意味著，即使「做得出來」，也未必「用得起、賣得動」。 據英媒《路透社》報導，大陸突破EUV關鍵人物是前ASML研究部員工林楠，他在2021年回到大陸，加入上海光機所，僅用18 個月就申請8項與EUV相關的技術專利。2025年10 月，他離開上海光機所，前往北京航空航太大學積體電路科學與工程學院任教。 外媒分析認為，林楠運用自身經驗和知識，協助大陸團隊提升光刻機基礎技術，而非直接複製ASML技術，他透過自主研發和專利布局，為大陸在EUV光刻領域的長期發展奠定基礎。 麥奎爾曾任拜登政府白宮國安會官員、現為外交關係協會資深研究員。他認為，近期市場熱議中國是否正在推動類似「曼哈頓計畫」等級的 EUV（極紫外光）曝光機研發，甚至認為一旦突破，將動搖全球半導體版圖。然而，從產業現實與投資角度來看，這類說法明顯高估了短期衝擊力。 麥奎爾認為，目前大陸只是進入了原型機的環節，再從技術上來看，光源發射器僅是EUV光刻的第一步，若沒有蔡司這樣的精密成像系統，即使掌握了光源，也無法正常驅動光刻機。 ＊邀請您加入《鉅聞天下新聞網》Line好友，點擊網址https://lin.ee/squRXRO　每天為您推薦有價值的好新聞。